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无掩膜/激光直写光刻机

简要描述:v光源:375nm、385nm、405nm激光器v线宽:0

基础信息

产品型号

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更新时间

2024-10-22

浏览次数

10
详细介绍

v 光源375 nm385 nm405 nm 激光器

v 线宽:0.5μm0.6μm1.0μm1.5μm

v 光刻效率:3000mm2/min@5μm

v XY行程:55~205mm

v 样品尺寸:最小3mm*3mm   8 inch

v 应用领域:生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光学元件、芯片封装、光通讯芯片光刻


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