简要描述：l方案是适用于8吋晶圆的多腔等离子体刻蚀工艺系统l系统可用于研发和小批量生产l系统兼容8吋、6吋、4吋、3吋晶圆和不规则碎片；不同尺寸样片之间的切换、无需反应腔的开腔破真空l系统包括：一个六端口的转接腔、带机械手

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