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磁控溅射镀膜机Sputter

简要描述:v应用领域:巨磁电阻(GMR)、组合材料科学(CMS)、半导体、超导体、纳米级器件、光子学、光伏(PV)、OLED(发光二极管)、有机薄膜v样品尺寸:8英寸v溅射源:强磁靶、永磁靶

基础信息

产品型号

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更新时间

2024-10-22

浏览次数

17
详细介绍

v 应用领域:巨磁电阻(GMR)、组合材料科学(CMS)、半导体、超导体、纳米级器件、光子学、光伏(PV)、OLED(发光二极管)、有机薄膜

v 样品尺寸:8英寸

v 溅射源:强磁靶、永磁靶,数量根据用户定制

v 电源:直流电源、射频电压

v 真空系统:超高真空

v 样品台加热:至1100℃

v 控制系统:全自动控制

v 进样室:根据用户需求定制


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