简要描述：一、产品介绍：等离子清洗设备在材料学，光学，电子学，医药学，环境学、生物学等科研领域，主要用于材料表面进行清洗、活化、改性等目的

一、产品介绍：

等离子清洗设备在材料学，光学，电子学，医药学，环境学、生物学等科研领域，主要用于材料表面进行清洗、活化、改性等目的。

CIF推出的新一代等离子体清洗设备，合理的结构设计，优化的腔体尺寸，使得处理样品更大，适用范围更广，性能更稳定，操作更简便，性价比更高，使用成本更低，实用性更强，更容易维护。       

二、产品特点

u 7寸彩色触摸屏互动操作界面，图形化用户操作界面显示，自动监测工艺参数状态，20个配方程序，可存储、输出、追溯工艺数据，机器运行、停止提示。

u PLC工控机控制整个清洗过程，手动、自动两种工作模式。

u 采用美国德威尔（Dwyer）气体浮子流量计，可输入氧气、氩气、氮气、氢气或混合气等气体，气体分配均匀，经济实用。

u HEPA高效过滤，气体返填吹扫，防止二次污染。

u 316不锈钢、石英真空仓可选择，全真空管路系统采用316不锈钢材质，耐腐蚀无污染。

u 采用60度倾角操作面板设计，符合人体功能学，操作方便，界面友好。

u 上控制下舱体结构设计，结构紧凑，占地空间小。

u 内凹式前面板设计，有效保护流量计和舱门运输过程中不易损坏。

u 处理快速高效均匀，无污染，工艺重复性好。

u 样品处理温度低，无热损伤和热氧化。

u 安全保护，仓门打开，自动关闭电源。

三、技术参数